產(chǎn)品分類
產(chǎn)品型號(hào)
MSD-200D廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
2026-06-20瀏覽次數(shù)
2503產(chǎn)品描述
桌上型自動(dòng)顯影機(jī)MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動(dòng)上下片，自動(dòng)完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進(jìn)口伺服電機(jī)，保證轉(zhuǎn)速、加速度、控制精度高，重復(fù)性好；供液系統(tǒng)采用廠務(wù)或者壓力容器直接供液方式。
產(chǎn)品型號(hào)
MSC-75T廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
2026-05-11瀏覽次數(shù)
2412產(chǎn)品描述
鈣鈦礦旋涂?jī)x應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
產(chǎn)品型號(hào)
MSC-200T-D廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
2026-06-20瀏覽次數(shù)
2508產(chǎn)品描述
自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨， 取出后在進(jìn)行后道烘干工藝。
產(chǎn)品型號(hào)
MSC系列廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
2026-06-20瀏覽次數(shù)
2166產(chǎn)品描述
勻膠機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)介： 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)樣品。
產(chǎn)品型號(hào)
MSC-75T廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
2026-06-18瀏覽次數(shù)
1795產(chǎn)品描述
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
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